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Método de deposição a vácuo

A deposição física de vapor é a deposição a vácuo em que apenas processos físicos ocorrem, e não há reações químicas.

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Método de deposição a vácuoO termo “deposição a vácuo” descreve um grupo de processos que se destinam a fixar partículas individuais, especificamente os átomos e as moléculas, a uma superfície. Os processos são realizados no vácuo para impedir qualquer interferência ou reação com as partículas de gases, tais como o oxigênio, que pode ser altamente reativo. Uma camada muito fina de uma substância aplicada a uma superfície é referida como um filme, enquanto que uma camada mais espessa é chamada de revestimento. Deposição em vácuo pode servir a diversas finalidades, tais como deposição de camadas condutoras em superfícies, ou proteção dos metais contra a corrosão. O processo também é usado, frequentemente, em várias peças automotivas para diversos fins, como prevenção de ferrugem e corrosão.

Os métodos mais utilizados de deposição a vácuo envolvem a utilização de vapor. Por vezes, a substância que será depositada sobre a superfície é vaporizada, e mais tarde se condensa como uma camada sobre a superfície. Em outros casos, a substância vaporizada ou outras substâncias reagem com a superfície para formar a película ou o revestimento desejado. Em alguns casos, outros fatores, tais como a temperatura ou a densidade de vapor, têm de ser manipulados para se obter os resultados desejados. Estes fatores podem influenciar a espessura e a coesão da camada, de modo que é essencial que sejam reguladas corretamente.

Máquina de deposição a vácuo

Máquina de deposição a vácuo

A deposição física de vapor é a deposição a vácuo em que apenas processos físicos ocorrem, e não há reações químicas. Métodos de deposição física de vapor são principalmente utilizados para cobrir as superfícies com filmes finos; substâncias vaporizadas são condensadas na superfície. Tal método é chamado de elétrons De feixe de deposição física de vapor. Outro método comum de deposição de vácuo físico é a deposição por pulverização, no qual o gás ou vapor é ejetado a partir de uma fonte e dirigido para a superfície a ser revestida.

A deposição química de vapor é uma forma de deposição a vácuo, em que os processos químicos são utilizados para produzir a película ou o revestimento desejado. Gases ou vapores reagem com a superfície e se destinam ao revestimento no vácuo. Muitos produtos químicos diferentes, tais como silício ou nitreto de silício policristalino, são utilizados em diferentes processos químicos de deposição de vapor.
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O vácuo é uma parte essencial do método de deposição, que serve a várias funções importantes. A presença de um vácuo resulta em uma baixa densidade de partículas indesejáveis, de modo que as partículas que se destinam a cobrir a superfície não reagem ou colidem com quaisquer partículas contaminantes. O vácuo também permite aos cientistas controlar a composição do vácuo da câmara de vácuo, de modo que um revestimento do tamanho adequado e consistência pode ser produzido.


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